一. 产品应用 
本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液（溶胶）中，通过预先设置的参数，将浸渍后的基片以一定速度垂直提拉起来。在基片上附着一层膜，称为 “湿凝胶膜”，随着“湿凝胶膜”膜层中溶剂的挥发，膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。 
二. 产品简介 
浸渍提拉镀膜机是专门为液相（特别是sol-gel法）制备薄膜材料的研究工作而，对不同液体通过浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数（多次多层镀膜）、镀膜间隔时间均连续可调、控制。对镀膜基质无要求，片状、块状、圆柱状等均可镀膜。运行稳定、工作时液面无振动，可提高实验精度与实验效率。 
适用于硅片、玻璃、陶瓷、金属等固体材料表面涂覆工艺。应用于科学研究、产品。 
三. 产品特点 
1. 采用自主的的传动装置； 
2. 提拉机构、程控系统来自中国台湾及日本进口，确保运行精度及稳定性； 
3. 多参数全自动控制；提拉速度连续可调； 
4. 镀膜过程采用4.3寸液晶触摸屏使控制更方便；恒温场温度LCD液晶显示可编程控温，。 
5. 运行时，各项参数实时显示，更直观了解镀膜进程； 
6. 高、低速均运行平稳，镀膜时液面无振动，使成膜更均匀； 
7. 整个镀膜过程在恒温温度场内进行，可控温，温度均匀性好。 
8. 的平口型夹具，两面均匀夹持样片，不会夹坏样片； 
四. 参数 
1. 提拉速度范围：1～5000 μm/s，小分辨率1μm/s； 
2. 适用基片尺寸：MIN 5×5 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm； 
3. 浸渍时间：1～1200 s，小分辨率1s； 
4. 镀膜次数：1～100次，少1次； 
5. 每次镀膜间隔时间：1～3600 s，小分辨率1s； 
6. 恒温温度：RT+10～200℃,温度分辨率0.1℃； 
7. 温度波动度≤±0.2℃； 
8. 恒温场内尺寸：340×320×320 mm（W×D×H）； 
9. 电源：220V/50Hz

一. 产品应用 
本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液（溶胶）中，通过预先设置的参数，将浸渍后的基片以一定速度垂直提拉起来。在基片上附着一层膜，称为 “湿凝胶膜”，随着“湿凝胶膜”膜层中溶剂的挥发，膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。 
二. 产品简介 
浸渍提拉镀膜机是专门为液相（特别是sol-gel法）制备薄膜材料的研究工作而，对不同液体通过浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数（多次多层镀膜）、镀膜间隔时间均连续可调、控制。对镀膜基质无要求，片状、块状、圆柱状等均可镀膜。运行稳定、工作时液面无振动，可提高实验精度与实验效率。 
适用于硅片、玻璃、陶瓷、金属等固体材料表面涂覆工艺。应用于科学研究、产品。 
三. 产品特点 
1. 采用自主的的传动装置； 
2. 提拉机构、程控系统来自中国台湾及日本进口，确保运行精度及稳定性； 
3. 多参数全自动控制；提拉速度连续可调； 
4. 镀膜过程采用4.3寸液晶触摸屏使控制更方便；恒温场温度LCD液晶显示可编程控温，。 
5. 运行时，各项参数实时显示，更直观了解镀膜进程； 
6. 高、低速均运行平稳，镀膜时液面无振动，使成膜更均匀； 
7. 整个镀膜过程在恒温温度场内进行，可控温，温度均匀性好。 
8. 的平口型夹具，两面均匀夹持样片，不会夹坏样片； 
四. 参数 
1. 提拉速度范围：1～5000 μm/s，小分辨率1μm/s； 
2. 适用基片尺寸：MIN 5×5 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm； 
3. 浸渍时间：1～1200 s，小分辨率1s； 
4. 镀膜次数：1～100次，少1次； 
5. 每次镀膜间隔时间：1～3600 s，小分辨率1s； 
6. 恒温温度：RT+10～200℃,温度分辨率0.1℃； 
7. 温度波动度≤±0.2℃； 
8. 恒温场内尺寸：340×320×320 mm（W×D×H）； 
9. 电源：220V/50Hz